预期目标：到2026年，研制模块化的多场辅助化学机械原子级抛光装备，可以集成电、光、声、等离子体等多场，抛光压力调控精度0.1psi，抛光压力分区数量6个，利用该设备对单晶硅衬底进行抛光，表面起伏小于10个原子层，满足先进制程需求。

（二）高效团簇离子束原子级抛光装备的研发及在大径厚比金刚石光学窗口的加工应用

揭榜任务：面向高功率激光系统、中长波红外探测器等对原子级表面精度的金刚石窗口需求，突破气体原子团簇束流中和关键技术，建立原子级超光滑金刚石表面制造方法，研制超硬金刚石团簇离子束原子级抛光装备，实现大径厚比金刚石光学窗口的原子级制造，并应用验证。

预期目标：到2026年，高性能、低成本的束流中和器自主可控，具有较高的中和效率，对Ar₁₀₀团簇中和效率>50%，研制金刚石材料团簇离子束原子级抛光装备，建立金刚石光学窗口纳米级精度及原子级表面质量制造工艺，加工金刚石光学窗口直径≥75mm、径厚比≥100、表面面形精度PV≤λ/4、表面粗糙度Ra≤1nm，设备支持Ar/SF₆等多种气体团簇离子束、束流强度≥100μA、团簇束斑直径0.5-10mm可调、团簇离子能量≥60keV，能够支撑3英寸级金刚石光学窗口原子级可控制造。

（三）原子级精度X射线反射镜

揭榜任务：面向X射线掠入射反射镜对表面全频段误差的极端精度需求，突破X射线反射镜原子级精度加工关键技术；研发以等离子体加工和弹性发射加工为核心技术的原子级精度X射线反射镜加工工艺；研制等离子体与弹性发射加工装备，并开发误差高效收敛算法；推动自主加工的高精度X射线反射镜在同步辐射和自由电子激光装置的应用。

预期目标：到2026年，完成400mm尺寸X射线反射镜加工装备的研制，满足面型精度RMS优于2nm，斜率误差优于RMS 0.2μrad，表面粗糙度RMS优于0.1nm。自主加工的X射线反射镜在同步辐射和自由电子激光装置上得到应用。

（四）原子级分散的金属制剂

揭榜任务：针对传统植保制剂的药害风险高、与其他农药混配难度高、以及金属残留严重和橡胶制备使用过量氧化锌的污染问题，采用原子级分散工艺，降低金属的用量，实现相关领域产品国产化。

预期目标：到2026年，分别实现三款以上原子级分散金属制剂/助剂用于植保制剂、橡胶制备等领域。制剂中金属的原子级分散率高于95%；用于植保的杀菌铜制剂铜用量降低80%以上，施用后铜残留降低90%以上；完成实验室验证与大田实验，实验面积不低于100万亩；用于橡胶硫化助剂的金属锌用量降低